How ASML Makes Chips Faster With Its New $400 Million High NA Machine

ASML 生產什麼樣的機器？

• ASML 專門生產用於製造先進半導體晶片的微影系統。
• 這些機器利用光線將微小的電路圖案轉印到矽晶圓上。
• 它們製造兩種類型的機器：較舊的深紫外光 (DUV) 機器和最先進的極紫外光 (EUV) 機器。
• 儘管 DUV 機器仍佔 ASML 銷售額的一半以上，但 EUV 機器，特別是其最新的 High NA 機型，對於製造最先進的晶片至關重要。

High NA 機器是什麼？與舊款 EUV 機器有何不同？

• High NA 代表高數值孔徑。
• ASML 最新的 EUV High NA 機器與舊款 EUV 機器的關鍵區別在於其更大的鏡頭開口。
• 這使得機器能夠以更陡峭的角度捕捉更多光線，從而能夠在晶片光罩上捕捉越來越小的設計。
• 這提高了解析度，並允許以更少的曝光步驟 (使用更少的光罩) 來印製微小設計，從而節省時間並提高生產良率。

為什麼 ASML 的 EUV 機器如此重要？

• ASML 的 EUV 機器是世界上唯一能夠將奈米級藍圖印製到最先進晶片上的機器。
• 像 Nvidia、Apple、台積電、三星和 Intel 等公司生產的先進晶片都離不開 EUV 技術。
• 由於電晶體變得極小，傳統的微影技術已無法滿足需求。
• ASML 透過開發使用波長更短的 EUV 光線的技術解決了這個問題，這是至今沒有其他公司成功做到的。

製造一台 High NA 機器需要多久時間？

• ASML 的 High NA 機器是歷史上最先進的機床，製造過程極為複雜。
• 據報導，組裝一台這樣的系統需要大約一年半的時間。

High NA 機器的成本是多少？

• 一台 High NA 機器大約價值 4 億美元。
• 這比舊款 EUV 機器的 2.2 億美元有了顯著提升。
• 然而，儘管機器成本較高，但預計其製造的晶片成本會降低，因為它們可以更快、良率更高地製造。

ASML 的 EUV 技術是如何運作的？

• ASML 的 EUV 技術利用波長為 13.5 奈米的極紫外光線。
• 由於 EUV 光線幾乎會被所有物質吸收，整個系統必須在真空環境下運作。
• 光線是透過將熔融的錫以每秒 5 萬滴的速度噴射出來，然後用四個 CO2 雷射將錫滴汽化產生的。
• 這些微小的爆炸會發出 EUV 光子，然後由專門的鏡子捕捉並引導。
• 這些鏡子由德國光學公司蔡司製造，是世界上最平坦的人造表面。
• 光線通過鏡子組成的透鏡系統，最終投射到塗有光阻劑化學品的矽晶圓表面，印製出晶片藍圖。

為什麼 ASML 在 EUV 市場上是壟斷者？

• 幾家公司多年來嘗試過開發 EUV 技術，但所需的巨大投資和投入阻礙了他們。
• ASML 大膽地在 EUV 技術上投入了超過 20 年的時間和大量資源，成功地開發出了可行且可生產的系統，而其他公司則未能成功。
• 這使得 ASML 完全壟斷了 EUV 微影機器的市場。

美國的出口管制對 ASML 的業務有何影響？

• 美國的出口管制，始於川普政府時期，禁止 ASML 將其最先進的 EUV 機器銷售給中國。
• 這是為了防止中國獲得用於人工智慧等領域的最先進晶片和工具。
• 儘管如此，中國一直在囤積 ASML 較不先進的機器。
• 由於出口管制和全球其他地區需求的變化，中國佔 ASML 業務的比例在最近有所下降，儘管中國仍是其重要的市場。